Tub de forn de carbur de silici de bona estabilitat resistent a altes temperatures

Tub de forn de carbur de silici amb bona estabilitat i resistència a altes temperatures Imatge destacada

Descripció breu:

WeiTai Energy Technology Co., Ltd. és un proveïdor líder especialitzat en hòsties i consumibles avançats de semiconductors.Ens dediquem a oferir productes innovadors, fiables i d'alta qualitat per a la fabricació de semiconductors,indústria fotovoltaicai altres camps relacionats.

La nostra línia de productes inclou productes de grafit recoberts de SiC/TaC i productes ceràmics, que inclouen diversos materials com ara carbur de silici, nitrur de silici i òxid d'alumini, etc.

Com a proveïdor de confiança, entenem la importància dels consumibles en el procés de fabricació i ens comprometem a oferir productes que compleixin els estàndards de qualitat més alts per satisfer les necessitats dels nostres clients.

Envieu-nos un correu electrònic

Detall del producte

Etiquetes de producte

El carbur de silici és un nou tipus de ceràmica amb un alt rendiment de costos i excel·lents propietats del material.A causa de característiques com l'alta resistència i duresa, resistència a altes temperatures, gran conductivitat tèrmica i resistència a la corrosió química, el carbur de silici pot suportar gairebé tots els mitjans químics.Per tant, el SiC s'utilitza àmpliament en la mineria del petroli, la química, la maquinària i l'espai aeri, fins i tot l'energia nuclear i els militars tenen les seves demandes especials sobre el SIC.Algunes aplicacions normals que podem oferir són anells de segellat per a bomba, vàlvula i armadura protectora, etc.

Podem dissenyar i fabricar segons les vostres dimensions específiques amb una bona qualitat i un termini de lliurament raonable.

Podem oferir estable i fiablevaixells de cristall de carbur de silici,pales de carbur de silici,tubs de forn de carbur de siliciper a la indústria de les hòsties de semiconductors de 4 a 6 polzades.La puresa pot arribar al 99,9% sense contaminar l'hòstia.

Tub de forn de carbur de silicis'utilitza principalment per a: hòstia de silici de 4-6 polzades LTO = sílice, SIPOS = oxi-polisilici, SI3N4 = nitrur de silici, PSG = vidre de fosfosilici, POLY = creixement de pel·lícula de polisilici.És la matèria primera gas (o gasificació de font líquida) activada per energia tèrmica per generar una pel·lícula sòlida a la superfície del substrat.La deposició de vapor químic a baixa pressió es realitza a baixa pressió, a causa de la baixa pressió, el camí lliure mitjà de les molècules de gas és gran, de manera que la uniformitat de la pel·lícula cultivada és bona i el substrat es pot col·locar verticalment i la quantitat de La càrrega és gran, especialment adequada per a circuits integrats a gran escala, dispositius discrets, electrònica de potència, dispositius optoelectrònics i fibra òptica i altres indústries d'equips especials de producció industrial.

Aplicacions:

- Camp resistent al desgast: casquet, placa, broquet de sorra, revestiment de cicló, barril de mòlta, etc.

- Camp d'alta temperatura: llosa siC, tub de forn d'extinció, tub radiant, gresol, element de calefacció, corró, biga, intercanviador de calor, canonada d'aire fred, broquet del cremador, tub de protecció de termoparells, vaixell de SiC, estructura de cotxe de forn, instal·lador, etc.

-Camp militar antibales

-Semiconductor de carbur de silici: vaixell d'hòstia SiC, mandril sic, paleta sic, casset sic, tub de difusió sic, forquilla d'hòstia, placa de succió, guia, etc.

- Camp de segell de carbur de silici: tot tipus d'anell de segellat, coixinets, casquilles, etc.

- Camp fotovoltaic: paleta en voladís, barril de mòlta, corró de carbur de silici, etc.

- Camp de bateries de liti