Els substrats de GaAs es divideixen en conductors i semiaïllants, que s'utilitzen àmpliament en làser (LD), díode emissor de llum (LED), làser d'infraroig proper, làser d'alta potència de pou quàntic i panells solars d'alta eficiència.Xips HEMT i HBT per a ordinadors de radar, microones, ones mil·límetres o d'ultra alta velocitat i comunicacions òptiques;Dispositius de radiofreqüència per a comunicació sense fil, 4G, 5G, comunicació per satèl·lit, WLAN.
Recentment, els substrats d'arsenur de gal·li també han avançat molt en els mini-LED, Micro-LED i LED vermell, i s'utilitzen àmpliament en dispositius portàtils AR/VR.
| Diàmetre | 50 mm |75 mm |100 mm |150 mm |
| Mètode de creixement | LEC液封直拉法 |
| Gruix de l'hòstia | 350 um ~ 625 um |
| Orientació | <100> / <111> / <110> o altres |
| Tipus conductor | P – tipus / N – tipus / Semiaïllant |
| Tipus/Dopant | Zn / Si / no dopat |
| Concentració de portadors | 1E17 ~ 5E19 cm-3 |
| Resistivitat a RT | ≥1E7 per SI |
| Mobilitat | ≥4000 |
| EPD (densitat de fosa de gravat) | 100~1E5 |
| TTV | ≤ 10 um |
| Arc / Ordit | ≤ 20 um |
| Acabat superficial | DSP/SSP |
| Marca làser |
|
| Grau | Grau epi polit / grau mecànic |
-
Subministrament de producció Diverses especificacions en hi...
-
Feltre suau de grafit flexible per a aïllament tèrmic
-
Placa ceràmica de carbur de silici d'alta puresa
-
Portador de SiC per a tractament tèrmic d'escalfament ràpid RTP/RTA...
-
Susceptor de barril recobert de carbur de silici
-
Semiconductor de vaixell de carbur de silici personalitzable...