Semiceraofereix amb orgullGa2O3Epitaxia, una solució d'última generació dissenyada per superar els límits de l'electrònica de potència i l'optoelectrònica. Aquesta tecnologia epitaxial avançada aprofita les propietats úniques de l'òxid de gal·li (Ga2O3) per oferir un rendiment superior en aplicacions exigents.
Característiques principals:
• Bandgap ample excepcional: Ga2O3Epitaxiacompta amb un interval de banda ultra ample, que permet tensions de ruptura més altes i un funcionament eficient en entorns d'alta potència.
•Alta conductivitat tèrmica: La capa epitaxial proporciona una excel·lent conductivitat tèrmica, assegurant un funcionament estable fins i tot en condicions d'alta temperatura, la qual cosa la fa ideal per a dispositius d'alta freqüència.
•Qualitat de material superior: Aconseguiu una alta qualitat de cristall amb defectes mínims, assegurant un rendiment i una longevitat òptims del dispositiu, especialment en aplicacions crítiques com transistors de potència i detectors UV.
•Versatilitat en aplicacions: Perfectament adequat per a l'electrònica de potència, aplicacions de RF i optoelectrònica, proporcionant una base fiable per a dispositius semiconductors de nova generació.
Descobreix el potencial deGa2O3Epitaxiaamb les solucions innovadores de Semicera. Els nostres productes epitaxials estan dissenyats per complir amb els més alts estàndards de qualitat i rendiment, permetent que els vostres dispositius funcionin amb la màxima eficiència i fiabilitat. Trieu Semicera per a la tecnologia de semiconductors d'avantguarda.
| Elements | Producció | Recerca | Maniquí |
| Paràmetres de cristall | |||
| Politipus | 4H | ||
| Error d'orientació superficial | <11-20 >4±0,15° | ||
| Paràmetres elèctrics | |||
| Dopant | Nitrogen de tipus n | ||
| Resistivitat | 0,015-0,025 ohm·cm | ||
| Paràmetres mecànics | |||
| Diàmetre | 150,0 ± 0,2 mm | ||
| Gruix | 350±25 μm | ||
| Orientació plana primària | [1-100]±5° | ||
| Longitud plana primària | 47,5 ± 1,5 mm | ||
| Pis secundari | Cap | ||
| TTV | ≤5 μm | ≤10 μm | ≤15 μm |
| LTV | ≤3 μm (5mm * 5mm) | ≤5 μm (5mm * 5mm) | ≤10 μm (5 mm * 5 mm) |
| Arc | -15μm ~ 15μm | -35μm ~ 35μm | -45μm ~ 45μm |
| Deformació | ≤35 μm | ≤45 μm | ≤55 μm |
| Rugositat frontal (Si-face) (AFM) | Ra≤0,2 nm (5 μm * 5 μm) | ||
| Estructura | |||
| Densitat de microtubes | <1 ea/cm2 | <10 ea/cm2 | <15 ea/cm2 |
| Impureses metàl·liques | ≤5E10àtoms/cm2 | NA | |
| BPD | ≤1500 ea/cm2 | ≤3000 ea/cm2 | NA |
| TSD | ≤500 ua/cm2 | ≤1000 ea/cm2 | NA |
| Qualitat davantera | |||
| Davant | Si | ||
| Acabat superficial | Si-face CMP | ||
| Partícules | ≤60ea/hòstia (mida ≥0,3μm) | NA | |
| Esgarrapades | ≤5ea/mm. Longitud acumulada ≤Diàmetre | Longitud acumulada ≤ 2 * Diàmetre | NA |
| Pela de taronja/foses/taques/estries/esquerdes/contaminació | Cap | NA | |
| Estelles de vora/sagnies/fractura/plaques hexagonals | Cap | ||
| Zones politipus | Cap | Àrea acumulada ≤20% | Àrea acumulada ≤30% |
| Marcatge làser frontal | Cap | ||
| Tornar Qualitat | |||
| Acabat posterior | CMP cara C | ||
| Esgarrapades | ≤5ea/mm, longitud acumulada≤2 * Diàmetre | NA | |
| Defectes posteriors (estelles de vora/sagnies) | Cap | ||
| Rugositat de l'esquena | Ra≤0,2 nm (5 μm * 5 μm) | ||
| Marcatge làser posterior | 1 mm (des de la vora superior) | ||
| Edge | |||
| Edge | Xamfrà | ||
| Embalatge | |||
| Embalatge | Epi-ready amb envasat al buit Embalatge de casset multiwafer | ||
| *Notes: "NA" significa que no hi ha cap sol·licitud. Els elements no esmentats poden referir-se a SEMI-STD. | |||
