El nostre LPCVD(Deposició de vapor químic a baixa pressió)Vaixell de carbur de siliciestà dissenyat amb tecnologia d'avantguarda, dissenyat per al procés de fabricació de semiconductors d'alta temperatura. Aquest d'alta qualitatvaixell de carbur de siliciofereix un rendiment i una fiabilitat excepcionals en condicions extremes, cosa que la converteix en una opció ideal per a la fabricació de semiconductors i altres processos d'alta temperatura.
Estabilitat a alta temperatura:El nostrevaixell de carbur de silicisuporta temperatures fins a1700°C, assegurant estabilitat i rendiment en operacions contínues a alta temperatura.
Inercia química:Amb una estabilitat química excepcional, resisteix la corrosió d'àcids, bases i altres productes químics corrosius, assegurant la durabilitat durant un ús a llarg termini.
Conductivitat tèrmica superior:L'alta conductivitat tèrmica garanteix una distribució uniforme de la temperatura a tot el vaixell, contribuint a millorar la qualitat i consistència del producte.
Força i resistència al desgast:La resistència mecànica i la resistència al desgast excepcionals permeten un ús continu sense danys, reduint la freqüència i el cost de substitució.
Aplicacions:
Apte per a diversos processos d'alta temperatura, incloent, entre d'altres, la fabricació de semiconductors, la producció de cèl·lules solars i les operacions de forn d'alta temperatura. El seu alt rendiment i fiabilitat el converteixen en l'opció ideal per a aquestes aplicacions exigents.
Per què escollirEl nostre LPCVDVaixell de carbur de silici?
Estem compromesos a oferir els més alts estàndards de productes i serveis.El nostre LPCVDVaixell de carbur de silicino només ofereix un rendiment i una durabilitat excepcionals, sinó que també ajuda a optimitzar l'eficiència i la qualitat de la producció, reduint els costos operatius. Escollir-nos significa seleccionar un soci de confiança per impulsar el vostre negoci.
Lloc de treball
Magatzem
El nostre Taller
