Descripció
Els susceptors d'hòsties de SiC de Semicorex per a MOCVD (deposició de vapor químic orgànic metàl·lic) estan dissenyats per satisfer les demandes exigents dels processos de deposició epitaxial. Utilitzant carbur de silici (SiC) d'alta qualitat, aquests susceptors ofereixen una durabilitat i un rendiment incomparables en entorns corrosius i d'alta temperatura, assegurant el creixement precís i eficient dels materials semiconductors.
Característiques principals:
1. Propietats materials superiorsConstruïts amb SiC d'alt grau, els nostres susceptors d'hòsties presenten una conductivitat tèrmica i una resistència química excepcionals. Aquestes propietats els permeten suportar les condicions extremes dels processos MOCVD, incloses les altes temperatures i els gasos corrosius, assegurant una longevitat i un rendiment fiable.
2. Precisió en la deposició epitaxialL'enginyeria precisa dels nostres susceptors d'hòsties de SiC garanteix una distribució uniforme de la temperatura a la superfície de l'hòstia, facilitant el creixement de la capa epitaxial consistent i d'alta qualitat. Aquesta precisió és fonamental per produir semiconductors amb propietats elèctriques òptimes.
3. Durabilitat milloradaEl robust material SiC proporciona una excel·lent resistència al desgast i a la degradació, fins i tot sota una exposició contínua a entorns de procés durs. Aquesta durabilitat redueix la freqüència de substitucions de susceptors, minimitzant el temps d'inactivitat i els costos operatius.
Aplicacions:
Els susceptors d'hòsties SiC de Semicorex per a MOCVD són ideals per a:
• Creixement epitaxial de materials semiconductors
• Processos MOCVD d'alta temperatura
• Producció de GaN, AlN i altres semiconductors compostos
• Aplicacions avançades de fabricació de semiconductors
Especificacions principals dels recobriments CVD-SIC:
Beneficis:
•Alta precisió: Assegura un creixement epitaxial uniforme i d'alta qualitat.
•Rendiment de llarga durada: La durabilitat excepcional redueix la freqüència de substitució.
• Cost-Eficiència: Redueix els costos operatius reduint el temps d'inactivitat i el manteniment.
•Versatilitat: Personalitzable per adaptar-se a diversos requisits del procés MOCVD.