Subministrament de producció Diverses especificacions en pols de carboni d'alta puresa (pols de carboni 6N)

Descripció breu:

La puresa de la pols de SiC afectarà directament la qualitat i el rendiment del monocristall de SiC cultivat pel mètode PVT, i les matèries primeres per preparar la pols de SiC són pols de Si d'alta puresa i pols de C d'alta puresa, i la puresa de la pols de C afectarà directament la puresa de la pols de SiC.

Envieu-nos un correu electrònic

Detall del producte

Etiquetes de producte

Les matèries primeres utilitzades en la producció de tòner solen incloure grafit en escates, coc de petroli i tinta de pedra microcristal·lina. Com més gran sigui la puresa del grafit, més gran serà el valor d'ús. Els mètodes de purificació de grafit es poden dividir en mètodes físics i mètodes químics. Els mètodes de purificació física inclouen la flotació i la purificació a alta temperatura, i els mètodes de purificació química inclouen el mètode àcid-base, el mètode àcid fluorhídric i el mètode de torrefacte amb clorur.

Entre ells, el mètode de purificació d'alta temperatura pot fer servir el punt de fusió elevat (3773K) i el punt d'ebullició del grafit per aconseguir 4N5 i una puresa més alta, que implica l'evaporació i l'emissió d'impureses amb un punt d'ebullició baix, per tal d'aconseguir el propòsit de purificació [6]. La tecnologia clau del tòner d'alta puresa és l'eliminació de traces d'impureses. Combinat amb les característiques de purificació química i purificació d'alta temperatura, s'adopta un procés únic de purificació termoquímica d'alta temperatura composta segmentada per aconseguir la purificació de materials de tòner d'alta puresa i la puresa del producte pot ser superior a 6N.