Vaixell de grafit isostàtic PECVD

Imatge destacada del vaixell de grafit PECVD isostàtic

Descripció breu:

El vaixell de grafit isostàtic PECVD s'utilitza àmpliament en diversos enllaços de la fabricació de semiconductors, com ara la deposició de pel·lícula de polisilici, la deposició de pel·lícula d'òxid, la deposició de pel·lícula de nitrur, etc. El seu excel·lent rendiment el converteix en un portador ideal d'hòsties en el procés PECVD.

Envieu-nos un correu electrònic

Detall del producte

Etiquetes de producte

El vaixell de grafit PECVD isostàtic de SEMICERA és un producte de grafit d'alta puresa i alta densitat dissenyat per al suport d'hòsties en el procés PECVD (deposició de vapor químic millorat per plasma). SEMICERA utilitza tecnologia de premsa isostàtica avançada per garantir que el vaixell de grafit tingui una excel·lent resistència a les altes temperatures, resistència a la corrosió, estabilitat dimensional i bona conductivitat tèrmica, que és un consumible indispensable en el procés de fabricació de semiconductors.

El vaixell de grafit PECVD isostàtic SEMICERA té els següents avantatges:

▪ Alta puresa: el material de grafit és d'alta puresa i baix contingut d'impureses per evitar la contaminació de la superfície de l'hòstia.

▪ Alta densitat: alta densitat, alta resistència mecànica, pot suportar altes temperatures i ambients d'alt buit.

▪ Bona estabilitat dimensional: Petit canvi dimensional a alta temperatura per garantir l'estabilitat del procés.

▪ Excel·lent conductivitat tèrmica: transfereix eficaçment la calor per evitar el sobreescalfament de les hòsties.

▪ Forta resistència a la corrosió: capaç de resistir l'erosió per diversos gasos corrosius i plasma.

Paràmetre de rendiment	semicera	SGL R6510	Paràmetre de rendiment
Densitat aparent (g/cm3)	1,91	1,83	1,85
Resistència a la flexió (MPa)	63	60	49
Resistència a la compressió (MPa)	135	130	103
Duresa Shore (HS)	70	64	60
Coeficient d'expansió tèrmica (10-6/K)	85	105	130
Coeficient d'expansió tèrmica (10-6/K)	5,85	4.2	5.0
Resistivitat (μΩm)	11-13	13	10

Avantatges d'escollir-nos:
▪ Selecció de materials: s'utilitzen materials de grafit d'alta puresa per garantir la qualitat del producte.
▪ Tecnologia de processament: s'utilitza el premsat isostàtic per garantir la densitat i uniformitat del producte.
▪ Personalització de la mida: Les embarcacions de grafit de diferents mides i formes es poden personalitzar segons les necessitats del client.
▪ Tractament de superfícies: s'ofereixen diversos mètodes de tractament de superfícies, com ara el recobriment de carbur de silici, nitrur de bor, etc., per satisfer els diferents requisits del procés.