La matèria primera CVD SiC d'alta puresa de Semicera és un material avançat dissenyat per al seu ús en aplicacions d'alt rendiment que requereixen una estabilitat tèrmica, duresa i propietats elèctriques excepcionals. Fet amb carbur de silici per deposició química de vapor (CVD) d'alta qualitat, aquesta matèria primera proporciona una puresa i consistència superiors, la qual cosa la fa ideal per a la fabricació de semiconductors, recobriments d'alta temperatura i altres aplicacions industrials de precisió.
La matèria primera CVD SiC d'alta puresa de Semicera és coneguda per la seva excel·lent resistència al desgast, l'oxidació i el xoc tèrmic, assegurant un rendiment fiable fins i tot en els entorns més exigents. Tant si s'utilitza en la producció de dispositius semiconductors, eines abrasives o recobriments avançats, aquest material proporciona una base sòlida per a aplicacions d'alt rendiment que exigeixen els més alts estàndards de puresa i precisió.
Amb la matèria primera CVD SiC d'alta puresa de Semicera, els fabricants poden aconseguir una qualitat de producte superior i una eficiència operativa. Aquest material admet una sèrie d'indústries, des de l'electrònica fins a l'energia, oferint una durabilitat i un rendiment insuperables.
Les matèries primeres de carbur de silici CVD d'alta puresa de Semicera tenen les característiques següents:
▪Alta puresa:contingut d'impureses extremadament baix, assegurant la fiabilitat del dispositiu.
▪Alta cristalinitat:estructura de cristall perfecta, que ajuda a millorar el rendiment del dispositiu.
▪Baixa densitat de defectes:petit nombre de defectes, reduint el corrent de fuga del dispositiu.
▪Talla gran:Es poden proporcionar substrats de carbur de silici de gran mida per satisfer les necessitats de diferents clients.
▪Servei personalitzat:es poden personalitzar diferents tipus i especificacions de materials de carbur de silici segons les necessitats del client.
Avantatges del producte
▪ Ampli bandgap:El carbur de silici té una característica de banda intermitent àmplia, que li permet tenir un rendiment excel·lent en entorns durs com ara alta temperatura, alta pressió i alta freqüència.
▪Alta tensió de ruptura:Els dispositius de carbur de silici tenen una tensió de ruptura més alta i poden fabricar dispositius de major potència.
▪Alta conductivitat tèrmica:El carbur de silici té una excel·lent conductivitat tèrmica, la qual cosa afavoreix la dissipació de la calor del dispositiu.
▪Alta mobilitat electrònica:Els dispositius de carbur de silici tenen una major mobilitat d'electrons, cosa que pot augmentar la freqüència de funcionament del dispositiu.