Hòstia SiC de tipus N de 8 polzades

Descripció breu:

Les hòsties SiC de tipus N de 8 polzades de Semicera estan dissenyades per a aplicacions d'avantguarda en electrònica d'alta potència i alta freqüència. Aquestes hòsties proporcionen propietats elèctriques i tèrmiques superiors, garantint un rendiment eficient en entorns exigents. Semicera ofereix innovació i fiabilitat en materials semiconductors.


Detall del producte

Etiquetes de producte

Les hòsties SiC de tipus N de 8 polzades de Semicera estan a l'avantguarda de la innovació de semiconductors, proporcionant una base sòlida per al desenvolupament de dispositius electrònics d'alt rendiment. Aquestes hòsties estan dissenyades per satisfer les demandes rigoroses de les aplicacions electròniques modernes, des de l'electrònica de potència fins als circuits d'alta freqüència.

El dopatge de tipus N en aquestes hòsties de SiC millora la seva conductivitat elèctrica, fent-les ideals per a una àmplia gamma d'aplicacions, com ara díodes de potència, transistors i amplificadors. La conductivitat superior garanteix una pèrdua d'energia mínima i un funcionament eficient, que són crítics per als dispositius que funcionen a altes freqüències i nivells de potència.

Semicera utilitza tècniques de fabricació avançades per produir hòsties de SiC amb una uniformitat superficial excepcional i defectes mínims. Aquest nivell de precisió és essencial per a aplicacions que requereixen un rendiment i una durabilitat constants, com ara en les indústries aeroespacial, automotriu i de telecomunicacions.

La incorporació de les hòsties de SiC de tipus N de 8 polzades de Semicera a la vostra línia de producció proporciona una base per crear components que puguin suportar entorns durs i altes temperatures. Aquestes hòsties són perfectes per a aplicacions en conversió d'energia, tecnologia de RF i altres camps exigents.

Escollir les hòsties de SiC de tipus N de 8 polzades de Semicera significa invertir en un producte que combina la ciència dels materials d'alta qualitat amb una enginyeria precisa. Semicera es compromet a avançar en les capacitats de les tecnologies de semiconductors, oferint solucions que milloren l'eficiència i la fiabilitat dels seus dispositius electrònics.

Elements

Producció

Recerca

Maniquí

Paràmetres de cristall

Politipus

4H

Error d'orientació superficial

<11-20 >4±0,15°

Paràmetres elèctrics

Dopant

Nitrogen de tipus n

Resistivitat

0,015-0,025 ohm·cm

Paràmetres mecànics

Diàmetre

150,0 ± 0,2 mm

Gruix

350±25 μm

Orientació plana primària

[1-100]±5°

Longitud plana primària

47,5 ± 1,5 mm

Pis secundari

Cap

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm (5mm * 5mm)

≤5 μm (5mm * 5mm)

≤10 μm (5 mm * 5 mm)

Arc

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Deformació

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

Rugositat frontal (Si-face) (AFM)

Ra≤0,2 nm (5 μm * 5 μm)

Estructura

Densitat de microtubes

<1 ea/cm2

<10 ea/cm2

<15 ea/cm2

Impureses metàl·liques

≤5E10àtoms/cm2

NA

BPD

≤1500 ea/cm2

≤3000 ea/cm2

NA

TSD

≤500 ua/cm2

≤1000 ea/cm2

NA

Qualitat davantera

Davant

Si

Acabat superficial

Si-face CMP

Partícules

≤60ea/hòstia (mida ≥0,3μm)

NA

Esgarrapades

≤5ea/mm. Longitud acumulada ≤Diàmetre

Longitud acumulada ≤ 2 * Diàmetre

NA

Pela de taronja/foses/taques/estries/esquerdes/contaminació

Cap

NA

Estelles de vora/sagnies/fractura/plaques hexagonals

Cap

Zones politipus

Cap

Àrea acumulada ≤20%

Àrea acumulada ≤30%

Marcatge làser frontal

Cap

Tornar Qualitat

Acabat posterior

CMP cara C

Esgarrapades

≤5ea/mm, longitud acumulada≤2 * Diàmetre

NA

Defectes posteriors (estelles de vora/sagnies)

Cap

Rugositat de l'esquena

Ra≤0,2 nm (5 μm * 5 μm)

Marcatge làser posterior

1 mm (des de la vora superior)

Edge

Edge

Xamfrà

Embalatge

Embalatge

Epi-ready amb envasat al buit

Embalatge de casset multiwafer

*Notes: "NA" significa que no hi ha cap sol·licitud. Els elements no esmentats poden referir-se a SEMI-STD.

mida_tecnològica_1_2
Hòsties de SiC

  • Anterior:
  • Següent: