4″ 6″ 8″ Substrats conductors i semiaïllants

Descripció breu:

Semicera es compromet a proporcionar substrats semiconductors d'alta qualitat, que són materials clau per a la fabricació de dispositius semiconductors. Els nostres substrats es divideixen en tipus conductors i semiaïllants per satisfer les necessitats de diferents aplicacions. En entendre profundament les propietats elèctriques dels substrats, Semicera t'ajuda a triar els materials més adequats per garantir un rendiment excel·lent en la fabricació de dispositius. Tria Semicera, tria una qualitat excel·lent que posa l'accent tant en la fiabilitat com en la innovació.


Detall del producte

Etiquetes de producte

El material monocristal de carbur de silici (SiC) té una amplada de banda gran (~ Si 3 vegades), alta conductivitat tèrmica (~ Si 3,3 vegades o GaAs 10 vegades), alta taxa de migració de saturació d'electrons (~ Si 2,5 vegades), alta ruptura elèctrica camp (~Si 10 vegades o GaAs 5 vegades) i altres característiques destacades.

Els materials semiconductors de tercera generació inclouen principalment SiC, GaN, diamant, etc., perquè la seva amplada de banda intermèdia (Eg) és superior o igual a 2,3 electronvolts (eV), també coneguts com a materials semiconductors de banda ampla. En comparació amb els materials semiconductors de primera i segona generació, els materials semiconductors de tercera generació tenen els avantatges d'una alta conductivitat tèrmica, un camp elèctric elevat, una alta taxa de migració d'electrons saturats i una alta energia d'enllaç, que poden satisfer els nous requisits de la tecnologia electrònica moderna per a un alt nivell. temperatura, alta potència, alta pressió, alta freqüència i resistència a la radiació i altres condicions dures. Té perspectives d'aplicació importants en els camps de la defensa nacional, aviació, aeroespacial, exploració de petroli, emmagatzematge òptic, etc., i pot reduir la pèrdua d'energia en més d'un 50% en moltes indústries estratègiques com les comunicacions de banda ampla, l'energia solar, la fabricació d'automòbils, la il·luminació de semiconductors i la xarxa intel·ligent, i pot reduir el volum de l'equip en més d'un 75%, la qual cosa és una fita per al desenvolupament de la ciència i la tecnologia humanes.

Semicera Energy pot oferir als clients un substrat de carbur de silici conductor (conductor), semiaïllant (semiaïllant), HPSI (semiaïllant d'alta puresa); A més, podem oferir als clients làmines epitaxials de carbur de silici homogènies i heterogènies; També podem personalitzar el full epitaxial segons les necessitats específiques dels clients, i no hi ha una quantitat mínima de comanda.

ESPECIFICACIONS DE LA HÒBLEA

*n-Pm=n-tipus Pm-Grau, n-Ps=n-tipus Ps-Grau, Sl=Semi-aïllant

Item 8 polzades 6 polzades 4 polzades
nP n-p.m n-Ps SI SI
TTV (GBIR) ≤6um ≤6um
Arc (GF3YFCD)-Valor absolut ≤15μm ≤15μm ≤25μm ≤15μm
Deformació (GF3YFER) ≤25μm ≤25μm ≤40μm ≤25μm
LTV (SBIR) - 10 mm x 10 mm <2 μm
Vora de l'hòstia Bisellat

ACABAT SUPERFICIAL

*n-Pm=n-tipus Pm-Grau, n-Ps=n-tipus Ps-Grau, Sl=Semi-aïllant

ltem 8 polzades 6 polzades 4 polzades
nP n-p.m n-Ps SI SI
Acabat superficial Poliment òptic de doble cara, CMP Si-face
Rugositat superficial (10um x 10um) Si-FaceRa≤0,2 nm
C-Face Ra≤ 0,5 nm
(5umx5um) Si-Face Ra≤0.2nm
C-Face Ra≤0,5 nm
Xips de vora Cap permès (longitud i amplada ≥0,5 mm)
Sagnats Cap permès
Esgarrapades (Si-Face) Quantitat ≤5, acumulat
Longitud≤0,5 × diàmetre de l'hòstia
Quantitat ≤5, acumulat
Longitud≤0,5 × diàmetre de l'hòstia
Quantitat ≤5, acumulat
Longitud≤0,5 × diàmetre de l'hòstia
Esquerdes Cap permès
Exclusió de vora 3 mm
第2页-2
第2页-1
Hòsties de SiC

  • Anterior:
  • Següent: