Què és el susceptor MOCVD?

ElMOCVDEl mètode és un dels processos més estables que s'utilitzen actualment a la indústria per fer créixer pel·lícules primes monocristal·lines d'alta qualitat, com ara epicapes InGaN monofàsiques, materials III-N i pel·lícules semiconductors amb estructures de pous quàntics múltiples, i és de gran importància en el fabricació de dispositius semiconductors i optoelectrònics.

ElRevestiment de SiC susceptor MOCVDés un suport especialitzat per a hòsties recobert de carbur de silici (SiC) perepitaxial creixement en el procés de deposició de vapor químic orgànic metàl·lic (MOCVD).

El recobriment de SiC té una excel·lent resistència química i estabilitat tèrmica, el que el converteix en una opció ideal per als susceptors MOCVD utilitzats en processos de creixement epitaxial exigents.

Un component clau del procés MOCVD és el susceptor, que és un element clau per garantir la uniformitat i la qualitat de les pel·lícules primes produïdes.

Què és un susceptor? El susceptor és un component especialitzat utilitzat en el procés MOCVD per suportar i escalfar el substrat sobre el qual es diposita la pel·lícula fina. Té múltiples funcions, incloent absorbir energia electromagnètica, convertir-la en calor i distribuir uniformement la calor al substrat. Aquest escalfament uniforme és essencial per al creixement de pel·lícules primes uniformes amb gruix i composició precisos.

Tipus de susceptors:
1. Susceptors de grafit: els susceptors de grafit sovint estan recoberts amb una capa protectora com aracarbur de silici (SiC), que és conegut per la seva alta conductivitat tèrmica i estabilitat. ElRecobriment de SiCproporciona una superfície dura i protectora que resisteix la corrosió i la degradació a altes temperatures.

2. Susceptors de carbur de silici (SiC): aquests susceptors estan fets totalment de SiC i tenen una excel·lent estabilitat tèrmica i resistència al desgast. Els susceptors de SiC són especialment adequats per a processos d'alta temperatura i entorns corrosius.

Com funcionen els susceptors a MOCVD:

En el procés MOCVD, els precursors s'introdueixen a la cambra de reacció on es descomponen i reaccionen per formar una pel·lícula fina sobre el substrat. El susceptor té un paper vital assegurant que el substrat s'escalfa de manera uniforme, cosa que és fonamental per aconseguir propietats de pel·lícula consistents a tota la superfície del substrat. El material i el disseny del susceptor es seleccionen acuradament per satisfer els requisits específics del procés de deposició, com ara el rang de temperatura i la compatibilitat química.

Beneficis de l'ús de susceptors d'alta qualitat:
• Qualitat de pel·lícula millorada: en proporcionar una distribució uniforme de la calor, el susceptor ajuda a aconseguir pel·lícules amb un gruix i una composició consistents, la qual cosa és fonamental per al rendiment dels dispositius semiconductors.
• Millora de l'eficiència del procés: els susceptors d'alta qualitat augmenten l'eficiència global del procés MOCVD reduint la probabilitat de defectes i augmentant el rendiment de pel·lícules utilitzables.
• Vida útil i fiabilitat: els susceptors fets de materials duradors com el SiC garanteixen una fiabilitat a llarg termini i redueixen els costos de manteniment.

El susceptor és un component integral del procés MOCVD i afecta directament la qualitat i l'eficiència de la deposició de pel·lícula fina. Per a més informació sobre mides disponibles, susceptors MOCVD i preus, no dubteu a contactar amb nosaltres. Els nostres enginyers estaran encantats d'assessorar-vos sobre els materials adequats i respondre a totes les vostres preguntes.

Telèfon: +86-13373889683
WhatsApp: +86-15957878134
Email: sales01@semi-cera.com