-
Engranatge de rodes de recobriment de SiC: millora l'eficiència de fabricació de semiconductors
En el camp que avança ràpidament de la fabricació de semiconductors, la precisió i la durabilitat dels equips són fonamentals per aconseguir alts rendiments i qualitat. Un dels components clau que garanteix això és el SiC Coating Wheel Gear, dissenyat per millorar l'eficiència dels processos...Llegeix més -
Què és un tub de protecció de quars? | Semicera
El tub de protecció de quars és un component essencial en diverses aplicacions industrials, conegut pel seu excel·lent rendiment en condicions extremes. A Semicera, produïm tubs de protecció de quars dissenyats per a una gran durabilitat i fiabilitat en entorns durs. Amb un caràcter excepcional...Llegeix més -
Què és el tub de procés recobert CVD? | Semicera
Un tub de procés recobert de CVD és un component crític utilitzat en diversos entorns de fabricació d'alta temperatura i d'alta puresa, com ara la producció de semiconductors i fotovoltaica. A Semicera, estem especialitzats en la producció de tubs de procés recoberts de CVD d'alta qualitat que ofereixen...Llegeix més -
Què és el grafit isostàtic? | Semicera
El grafit isostàtic, també conegut com a grafit format isostàticament, es refereix a un mètode en què una barreja de matèries primeres es comprimeix en blocs rectangulars o rodons en un sistema anomenat premsat isostàtic en fred (CIP). El premsat isostàtic en fred és un mètode de processament de materials i...Llegeix més -
Què és el carbur de tantal? | Semicera
El carbur de tàntal és un material ceràmic extremadament dur conegut per les seves propietats excepcionals, especialment en ambients d'alta temperatura. A Semicera, ens especialitzem a oferir carbur de tàntal d'alta qualitat que ofereix un rendiment superior en indústries que requereixen materials avançats per a extrems...Llegeix més -
Què és un tub de nucli de forn de quars? | Semicera
Un tub de nucli de forn de quars és un component essencial en diversos entorns de processament d'alta temperatura, àmpliament utilitzat en indústries com la fabricació de semiconductors, la metal·lúrgia i el processament químic. A Semicera, estem especialitzats en produir tubs de nucli de forn de quars d'alta qualitat coneguts ...Llegeix més -
Procés de gravat en sec
El procés de gravat en sec normalment consta de quatre estats bàsics: abans del gravat, gravat parcial, només gravat i sobregravat. Les característiques principals són la velocitat de gravat, la selectivitat, la dimensió crítica, la uniformitat i la detecció del punt final. Figura 1 Abans del gravat Figura 2 Gravat parcial Figura...Llegeix més -
Pàdel SiC en Fabricació de Semiconductors
En l'àmbit de la fabricació de semiconductors, el SiC Paddle té un paper crucial, especialment en el procés de creixement epitaxial. Com a component clau utilitzat en sistemes MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition), les pales de SiC estan dissenyades per suportar altes temperatures i ...Llegeix més -
Què és Wafer Paddle? | Semicera
Una paleta d'hòsties és un component crucial que s'utilitza a les indústries de semiconductors i fotovoltaiques per manipular hòsties durant processos d'alta temperatura. A Semicera, ens sentim orgullosos de les nostres capacitats avançades per produir pales d'hòstia d'alta qualitat que compleixin les rigoroses demandes de...Llegeix més -
Procés i equips de semiconductors (7/7): procés i equips de creixement de pel·lícules primes
1. Introducció El procés d'adhesió de substàncies (matèries primeres) a la superfície dels materials del substrat mitjançant mètodes físics o químics s'anomena creixement de pel·lícula prima. Segons diferents principis de funcionament, la deposició de pel·lícula prima del circuit integrat es pot dividir en: -Deposició física de vapor ( P...Llegeix més -
Procés i equips de semiconductors (6/7) - Procés i equips d'implantació d'ions
1. Introducció La implantació iònica és un dels principals processos en la fabricació de circuits integrats. Es refereix al procés d'acceleració d'un feix d'ions fins a una certa energia (generalment en el rang de keV a MeV) i després injectar-lo a la superfície d'un material sòlid per canviar el suport físic...Llegeix més -
Procés i equips de semiconductors (5/7) - Procés i equips de gravat
Una introducció El gravat en el procés de fabricació de circuits integrats es divideix en: - Gravat humit; - Gravat en sec. En els primers dies, el gravat humit s'utilitzava àmpliament, però a causa de les seves limitacions en el control de l'amplada de la línia i la direccionalitat del gravat, la majoria dels processos després de 3 μm utilitzen gravat en sec. L'aiguafort humit és...Llegeix més